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研磨顆粒解決方案|定義半導體拋光的極致平整度
在半導體製程裡,平整度是決定良率的關鍵。納爾科提供基於超高純度水玻璃的創新奈米顆粒,專為 CMP 研磨液配方設計。這些顆粒具備多樣化的尺寸、分佈與濃度選擇,確保在廣泛的 pH 環境下保持卓越的穩定性。
3月25日
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